液相色譜儀分析中峰形對稱性的優劣對峰面積和分離度有很大的影響，從而影響分析結果的準確性。引起峰形異常的因素很多，柱外死體積引起峰形異常有個特點：對先出的峰影響大，對后出峰影響小；柱頭塌陷、柱頭和篩板污染會引起所 有的峰形都異常，而硅醇基次及保留只引起部分峰拖尾。相塌陷除了引起保留下降外，也會造成峰拖尾。色譜實踐中，大部分的峰形問題都 不是色譜柱的問題，儀器參數設定、色譜條件和方法正確與否對峰形有很大影響。
次及保留引起峰拖尾的機理解析：
反相色譜中，通常非及性和弱及性的化合物能獲得良好的峰形，而帶有－COOH、－NH2、－NHR、－NR2等及性基團的化合物則比較容易產生拖尾，原因是硅膠表面殘留硅羥基對及性和堿性樣品分子產生次及保留效應。
反相填料表面有殘余的硅羥基，具有壹定的酸性，其p Ka約為4.5～4.7。根據電離規律，流動相的pH－p Ka>2即pH>6.7時，99以上的硅羥基應該是呈離子狀態的，即Si－O－ ，而p Ka－pH>2即pH<2.5時，酸性環境抑 制了硅羥基的電離，99以上的硅羥基應該是呈分子狀態的，即Si－OH，但其及性仍然存在，即Si－Oδ－Hδ＋。Si－Oδ－Hδ＋和－Si－O－對于及性化合物之間的作用力則是一種及性的靜電作用力，這種作用力比范德華力要強得多。同時，因為硅膠表面鍵合了C18長鏈，由于空間位阻作用，樣品分子中能接觸到殘余硅羥基的機會不多，只有少部分的分子才能與殘余硅羥基產生強的靜電作用而被推遲洗脫出來，產生后拖。拖尾嚴重的程度與樣品分子及性大小和殘余硅羥基的多少 有著直接的關系。
相同的樣品在不同品牌的柱子上產生拖尾的嚴重性不同，從填料合成的角度而言就是鍵合密度是否高、封尾是否徹 底，高密鍵合和徹 底的封尾能顯 著減少這種機會，獲得良好的峰形。Welch公司Ulimate品牌的XB－C18、AQ－C18和Xtimate C18采取的就是高密鍵合和徹 底的雙 峰尾工藝。
